Планар сейчас делает ровно то же, что сделала ASML в 93-м, взяв видимо тот же Zeiss S-Planar 5/0.60, может быть его версию свежее, на это указывает похожий внешний вид оптической колонны, уменьшение 5х, NA в 0.60 и максимальный размер проецируемого изображения чипа в 22х22 мм.
Производители оборудования до сих пор не бросили 365 нм, так как оборудование и материалы под эту длину волны давно проработаны и наименее дорогие. В 2000-м году Zeiss поставил ASML доработанный i-line объектив, названный Starlith 400, уже с уменьшением 4x под применение в сканере, с NA = 0.65, с разрешением 200 нм, он на фото ниже.
Zeiss попутно поработал с осветителем, и через это снизил k1, поэтому, с тем же 365 нм i-line источником ASML вышла в 2000-м году в серии на 220 нм минимального элемента, снизив ошибку наложения 5500-й платформы до <30 нм.
220 нм = 0.39 (k1) x 365 нм / 0.65 (NA)
После 2000-го, с переходом на новую Twinscan платформу c двумя столиками кремниевых пластин с двухходовыми линейно-магнитолевитационными приводами повышенной точности, таким же приводом сканирующего модуля фотошаблона, и повышенной точностью интерферометров, ASML снизила ошибку наложения до <20 нм.
Такие i-line системы с ртутными лампами производятся до сих пор, как упоминалось, с конца 90-х это уже не степперы а более технологически сложные сканеры, за счёт чего они имеют повышенный размер проецируемого прямоугольника чипа, в 26х33 мм, с тех пор к этому добавилась производительность Twinscan XT платформы середины 00-х, доведённая до выхода в 245 пластин на 300 мм в час.
Для массы приложений размера элемента в 220-350 нм при чипе до 26х33 мм более чем достаточно, ошибка наложения платформы в 20 нм даёт для этого размера элемента отличный выход годных, поэтому минимальную стоимость микросхемы, на стоимость работают и 300 мм пластины.
Производители оборудования до сих пор не бросили 365 нм, так как оборудование и материалы под эту длину волны давно проработаны и наименее дорогие. В 2000-м году Zeiss поставил ASML доработанный i-line объектив, названный Starlith 400, уже с уменьшением 4x под применение в сканере, с NA = 0.65, с разрешением 200 нм, он на фото ниже.
Zeiss попутно поработал с осветителем, и через это снизил k1, поэтому, с тем же 365 нм i-line источником ASML вышла в 2000-м году в серии на 220 нм минимального элемента, снизив ошибку наложения 5500-й платформы до <30 нм.
220 нм = 0.39 (k1) x 365 нм / 0.65 (NA)
После 2000-го, с переходом на новую Twinscan платформу c двумя столиками кремниевых пластин с двухходовыми линейно-магнитолевитационными приводами повышенной точности, таким же приводом сканирующего модуля фотошаблона, и повышенной точностью интерферометров, ASML снизила ошибку наложения до <20 нм.
Такие i-line системы с ртутными лампами производятся до сих пор, как упоминалось, с конца 90-х это уже не степперы а более технологически сложные сканеры, за счёт чего они имеют повышенный размер проецируемого прямоугольника чипа, в 26х33 мм, с тех пор к этому добавилась производительность Twinscan XT платформы середины 00-х, доведённая до выхода в 245 пластин на 300 мм в час.
Для массы приложений размера элемента в 220-350 нм при чипе до 26х33 мм более чем достаточно, ошибка наложения платформы в 20 нм даёт для этого размера элемента отличный выход годных, поэтому минимальную стоимость микросхемы, на стоимость работают и 300 мм пластины.
Последнее редактирование: