Тем ни менее китайцы неуклонно догоняют ASML, преодолевая рубеж за рубежом, и хотя до реальной конкуренции ИМХО пока еще минимум лет 5, их зависимость от "белых сагибов" стремительно снижается. Такие санкции которые были применены к Хуавей сейчас вряд ли дали БЫ и десятую долю того эффекта
У китайцев на 2020-й не было даже собственных ArF лазеров на 193 нм пригодных для литографии, это уровень серийных установок Cymer с началом поставок в 2001-м (NanoLith 7000), ниже цитаты из китайской работы по этой тематике 2020-го.
-----------------------
Cпрос на эксимерные лазерные источники можно разделить на две категории: для литографии, с высокой частотой, с чрезвычайно узким спектром и чрезвычайно высокой стабильностью, и для промышленной обработки, c большой энергии единичного импульса и высокой мощностью.
Для литографических приложений большинство эксимерных лазерных продуктов поставляют американская Cymer (часть голландской ASML) и японская Gigaphoton, мощность их составляет от 10 до 100 Вт, ширина спектральной линии от 0.5 пм до 0.1 пм, частота от 2 до 6 кГц. Высокая частота улучшает производительность установок, скорость обработки пластин, а небольшая ширина линии обеспечивает четкость рисунка в фоторезисте на пластине, и уменьшает влияние хроматической аберрации в проекционной системе.
Таблица 1 показывает историческое развитие эксимерных лазерных ArF продуктов компании Cymer.
Американская Coherent в основном поставляет эксимерные лазерные источники для промышленного производства и научных исследований, с мощностью от 10 до тысяч Ватт, и энергией одиночного импульса от десятков до тысяч мДж. Основные области применения включают в себя маркировку и обработку материалов, обработку их поверхности, лазерный отжиг, медицинские приложения, а также измерительные, диагностику процесса горения. Эксимерные лазеры для промышленных и научных исследований, как правило, требуют высокой стабильности и однородности пятна. Если взять в качестве примера процесс лазерного отжига при производстве плоских дисплеев, энергетическая стабильность используемого эксимерного лазера требует стандартного отклонения менее 2%.
Исследования в Китае по эксимерным лазерам были начаты в 1980-х годах, с 2009-го года собственная китайская технология развивается более интенсивно, например недавно был преодолен ряд проблем, и была достигнута стабильная работа высокочастотных, высокоэнергетических и узкополосных эксимерных лазеров. Прототип эксимерной системы для литографии в настоящее время проходит технологическую проработку, ориентированную на создание коммерческого продукта.
Хотя Китай добился ряда достижений, остаются следующие недостатки:
1. Нехватка высококачественных компонентов для высокопроизводительных лазеров.
Подобный источник предъявляет высокие требования к компонентам, и параметры оптических и тонкопленочных компонентов китайского производства теперь в целом соответствуют предъявляемым к ним требованиям, по оптическим и спектральным характеристикам. Однако, большое количество исследований показывает разрыв между фактическими параметрами, и требованиями при применении в высокопроизводительных лазерах, в частности, долгосрочная устойчивость к повреждению лазерным излучением должна быть существенно улучшена. Основные причины этого следующие. Во-первых, подготовка оптических компонентов включает в себя несколько связанных этапов, таких как выращивание материала, обработка поверхности, нанесение покрытий, и на каждом из них на получаемые характеристики влияет множество факторов, что затрудняет выявление конкретного механизма влияния. Во-вторых, слабая база Китая в области высококачественных компонентов и их обработки создает препятствия для последующего нанесения покрытий, а также оценки качества их долгосрочной работы. Наконец, Китай еще не создал эффективные технологии и стандарты для комплексного тестирования и оценки в этой области, что делает невозможным эффективную оптимизацию.
2. Слабость фундаментальных исследований.
Текущие исследования Китая в области эксимерных лазеров используют готовые иностранные продукты и сосредоточены на проведении экспериментов для решения узких технических проблем. Накопленные знания о базовой технологии пока что малы. Китай находится в зачаточном состоянии в своих фундаментальных исследованиях, что затрудняет разработку новых технологий и продуктов.
Выводы.
В текущих и будущих потенциальных приложениях, таких как литография и сверхтонкая обработка, требования к энергии импульса, мощности и спектральным показателям резко возрастают, в то же время, энергия импульса и спектральные характеристики должны иметь чрезвычайно высокую стабильность. Хотя Китай добился ряда прорывов в области эксимер-лазерной технологии, между его прогрессом и достижениями за рубежом по-прежнему сохраняется большой разрыв. Основными причинами этого являются слабая внутренняя база, нехватка талантов (особенно ведущих специалистов), а также устаревшие технологии (отставание от передового уровня более чем на 10 лет).