Об отечественной электронной промышленности

и это только верхушка айсберга...
 
Реклама
Вообще, похоже, идея "заграница нам поможет" со времён Остапа Бендера не потеряла свою привлекательность среди мечтателей.
Если предположить, что в основе любой высокой технологии ( что по сути и есть вся "санкционка") лежит производство микроэлектроники, то можно обратить внимание на другой тип мечтателей. Они ближе к реальности :

Свердловское правительство хочет открыть в регионе свое производство микрочипов

 
Если предположить, что в основе любой высокой технологии ( что по сути и есть вся "санкционка") лежит производство микроэлектроники,
Это не так.

то можно обратить внимание на другой тип мечтателей. Они ближе к реальности :

Свердловское правительство хочет открыть в регионе свое производство микрочипов
Россия не производит оборудования для полупроводниковых фабрик даже под 180-нанометровую технологию. Заказы у мировых производителей такого оборудования сейчас расписаны чуть ли не на десятилетие вперёд, даже не говоря о том, что оно подсанкционный товар.
 
Россия не производит оборудования для полупроводниковых фабрик даже под 180-нанометровую технологию. Заказы у мировых производителей такого оборудования сейчас расписаны чуть ли не на десятилетие вперёд, даже не говоря о том, что оно подсанкционный товар.
В новостях эта тема не главная сегодня, но процесс идёт:
Понятно что процесс не скорый (на голландские степперы работает 5000 подрядчиков и нашим кулибиным тоже нужна кооперация не меньшего уровня, а это непросто всё). Зато получим свою топовую электронику.
 
Последнее редактирование:
В новостях эта тема не главная сегодня, но процесс идёт:
Понятно что процесс не скорый (на голландские степперы работает 5000 подрядчиков и нашим кулибиным тоже нужна кооперация не меньшего уровня, а это непросто всё). Зато получим свою топовую электронику.
Из статьи следует что в 2026 году уровень отечественной микроэлектроники будет (в лучшем случае) как у Intel в 2000. Те отстование 26лет.
 
Из статьи следует что в 2026 году уровень отечественной микроэлектроники будет (в лучшем случае) как у Intel в 2000. Те отстование 26лет.
Если Минпромторг будет проводить конкурсы на создание степпера сразу с уровнем 7 нм то и отставание сократится быстрее.
 
в 2026 году уровень отечественной микроэлектроники будет (в лучшем случае) как у Intel в 2000
не будет даже и такого, этот ОКР закончится тем, что бюджет освоен, распечатана кипа бумаги, опытная железяка если и родилась, то кривая и не работающая
а дальше один из двух вариантов
1) оптимистичный - сделан вывод, что выполнить поставленные цели в очерченных рамках не представляется возможным
2) реалистичный - сделан вывод, что надо еще чуть поднажать, еще немного денег, и все заработает, так что давайте 2ю фазу ОКР (тут могут даже бумажных нанометров убавить для заманухи)
3) пессимистичный - пункт 2, но давайте еще параллельно сразу завод (за офулиард) строить для производства чудо-гаджета, ведь уже правда вот-вот почти готово все!
 
Реклама
Предлагаю проводить конкурсы сразу на 1нм - что мелочиться?
Если серьёзно, то сугубо имхо, повторение существующих ( но уже начинающих устаревать) технологий - это хорошо, а создание перспективных - лучше.

"По мнению ведущих производителей, EUV-литография на базе лазера на свободных электронах (ЛСЭ) в ближайшем будущем может стать основной технологией массового производства со структурами до 5 нм. Одним из основных препятствий для этого является отсутствие работающего ЛСЭ с нужными параметрами. Рассматривается возможная программа разработки и создания такого ЛСЭ для реализации производства наноэлектроники на базе EUV-литографии силами ИЯФ, других институтов РАН, Росатома микроэлектронной промышленности Россиии и Белоруссии."

 
Последнее редактирование:
Если серьёзно, то сугубо имхо, чем копировать устаревающую технологию так лучше уж поддержать тех, кто пытается пойти дальше.

"По мнению ведущих производителей, EUV-литография на базе лазера на свободных электронах (ЛСЭ) в ближайшем будущем может стать основной технологией массового производства со структурами до 5 нм.
Предлагаете поддерживать ASML?

Одним из основных препятствий для этого является отсутствие работающего ЛСЭ с нужными параметрами. Рассматривается возможная программа разработки и создания такого ЛСЭ для реализации производства наноэлектроники на базе EUV-литографии силами ИЯФ, других институтов РАН, Росатома микроэлектронной промышленности Россиии и Белоруссии."

Хехе. С их размерами элементов я лично (как студент-автоматизатор) работал в лаборатории Алфёрова ещё при советской власти.
 
И чем оно им поможет, если у них "минимальный шаг 0,1 мкм"?
У них и нужного ЛСЭ ещё нет. Хочется верить, что уже разберутся с шагом в процессе. Я правильно понимаю, ASML получает излучение 13,5 нм для своей EUV-литографии из оловянной плазмы и эта технология уступает лазеру на свободных электронах?
 
Реклама
У них и нужного ЛСЭ ещё нет. Хочется верить, что уже разберутся с шагом в процессе.
"Хочется верить", понятно:
а дальше один из двух вариантов
1) оптимистичный - сделан вывод, что выполнить поставленные цели в очерченных рамках не представляется возможным
2) реалистичный - сделан вывод, что надо еще чуть поднажать, еще немного денег, и все заработает, так что давайте 2ю фазу ОКР (тут могут даже бумажных нанометров убавить для заманухи)
3) пессимистичный - пункт 2, но давайте еще параллельно сразу завод (за офулиард) строить для производства чудо-гаджета, ведь уже правда вот-вот почти готово все!

Я правильно понимаю, ASML получает излучение 13,5 нм для своей EUV-литографии из оловянной плазмы и эта технология уступает лазеру на свободных электронах?
"Уступает" в каком смысле? Если вы про абстрактную "разрешающую способность" как функцию от длины волны, то рентгеновские трубки, напомню, существуют уже больше ста лет.
 
Назад