SDA
Старожил
и это только верхушка айсберга...
и это только верхушка айсберга...ÐикÑоÑлекÑÑоника в РоÑÑии до и поÑле 24.02.2022
Ð ÑвеÑе поÑÐ»ÐµÐ´Ð½Ð¸Ñ ÑобÑÑий (Ð´Ð»Ñ Ð¿Ð¾Ñомков: гÑглим РоÑÑиÑ, УкÑаина, 24 ÑевÑÐ°Ð»Ñ 2022), пÑиведÑÐ¸Ñ Ðº Ð²Ð²ÐµÐ´ÐµÐ½Ð¸Ñ ÑанкÑий пÑоÑив РоÑÑии в ÑÑеÑе вÑÑÐ¾ÐºÐ¸Ñ ÑеÑнологий и, в ÑаÑÑноÑÑи, микÑоÑлекÑÑоники, Ñ...habr.com
Если предположить, что в основе любой высокой технологии ( что по сути и есть вся "санкционка") лежит производство микроэлектроники, то можно обратить внимание на другой тип мечтателей. Они ближе к реальности :Вообще, похоже, идея "заграница нам поможет" со времён Остапа Бендера не потеряла свою привлекательность среди мечтателей.
Это не так.Если предположить, что в основе любой высокой технологии ( что по сути и есть вся "санкционка") лежит производство микроэлектроники,
Россия не производит оборудования для полупроводниковых фабрик даже под 180-нанометровую технологию. Заказы у мировых производителей такого оборудования сейчас расписаны чуть ли не на десятилетие вперёд, даже не говоря о том, что оно подсанкционный товар.то можно обратить внимание на другой тип мечтателей. Они ближе к реальности :
Свердловское правительство хочет открыть в регионе свое производство микрочипов
Есть ещё фундаментальная и прикладная наука, есть различный софт. Микроэлектроника не единственная основа, но важнейшее звено.Это не так.
В новостях эта тема не главная сегодня, но процесс идёт:Россия не производит оборудования для полупроводниковых фабрик даже под 180-нанометровую технологию. Заказы у мировых производителей такого оборудования сейчас расписаны чуть ли не на десятилетие вперёд, даже не говоря о том, что оно подсанкционный товар.
Из статьи следует что в 2026 году уровень отечественной микроэлектроники будет (в лучшем случае) как у Intel в 2000. Те отстование 26лет.В новостях эта тема не главная сегодня, но процесс идёт:
Понятно что процесс не скорый (на голландские степперы работает 5000 подрядчиков и нашим кулибиным тоже нужна кооперация не меньшего уровня, а это непросто всё). Зато получим свою топовую электронику.«Полностью отечественные фотолитографы придут на замену импортным, используемым сейчас на зеленоградских фабриках». Глава наноцентра Анатолий Ковалёв — о новых разработках по заказу Минпромторга
В Зеленоградском нанотехнологическом центре (ЗНТЦ) началась разработка оборудования для фотолитографии. Два конкурса Минпромторга на создание установок для печати микросхем на кремниевых пластинах прошли осенью 2021 года: первый — на разработку фотолитографа с уровнем топологии до 130 нм, второй...www.zelenograd.ru
Если Минпромторг будет проводить конкурсы на создание степпера сразу с уровнем 7 нм то и отставание сократится быстрее.Из статьи следует что в 2026 году уровень отечественной микроэлектроники будет (в лучшем случае) как у Intel в 2000. Те отстование 26лет.
не будет даже и такого, этот ОКР закончится тем, что бюджет освоен, распечатана кипа бумаги, опытная железяка если и родилась, то кривая и не работающаяв 2026 году уровень отечественной микроэлектроники будет (в лучшем случае) как у Intel в 2000
Если Минпромторг будет проводить конкурсы на создание степпера сразу с уровнем 7 нм то и отставание сократится быстрее.
Спасибо! Давно так не смеялся!Если Минпромторг будет проводить конкурсы на создание степпера сразу с уровнем 7 нм то и отставание сократится быстрее.
Предлагаю проводить конкурсы сразу на 1нм - что мелочиться?Если Минпромторг будет проводить конкурсы на создание степпера сразу с уровнем 7 нм то и отставание сократится быстрее.
Если серьёзно, то сугубо имхо, повторение существующих ( но уже начинающих устаревать) технологий - это хорошо, а создание перспективных - лучше.Предлагаю проводить конкурсы сразу на 1нм - что мелочиться?
Предлагаете поддерживать ASML?Если серьёзно, то сугубо имхо, чем копировать устаревающую технологию так лучше уж поддержать тех, кто пытается пойти дальше.
"По мнению ведущих производителей, EUV-литография на базе лазера на свободных электронах (ЛСЭ) в ближайшем будущем может стать основной технологией массового производства со структурами до 5 нм.
Хехе. С их размерами элементов я лично (как студент-автоматизатор) работал в лаборатории Алфёрова ещё при советской власти.Одним из основных препятствий для этого является отсутствие работающего ЛСЭ с нужными параметрами. Рассматривается возможная программа разработки и создания такого ЛСЭ для реализации производства наноэлектроники на базе EUV-литографии силами ИЯФ, других институтов РАН, Росатома микроэлектронной промышленности Россиии и Белоруссии."
Экспериментальные установки ИЯФ им. Будкера в Новосибирске для рентгеновской литографии
Экспериментальная станция «LIGA» ssrc.inp.nsk.suНАЗНАЧЕНИЕ СТАНЦИИ.а) рентгеновская литография в толстых резистивных слоях для изготовления микроструктур в т. ч. рентгеношаблонов;б) экспонирование интенсивным пучком СИ...sdelanounas.ru При участии ИЯФ СО РАН создан новый полимер для рентгеновской литографии
Ученые Новосибирского института органической химии СО РАН (НИОХ СО РАН) синтезировали акрилат-силоксановый гибридный мономер – фотополимерный материал c добавлением кремния, который обладает чувствительностью к синхротронному излучению (СИ) и хорошо подходит для создания сложных микроструктур на...www.atomic-energy.ru
Главное, что они на ЛСЭ лазер нацелились.Хехе. С их размерами элементов я лично (как студент-автоматизатор) работал в лаборатории Алфёрова ещё при советской власти.
И чем оно им поможет, если у них "минимальный шаг 0,1 мкм"?Главное, что они на ЛСЭ лазер нацелились.
У них и нужного ЛСЭ ещё нет. Хочется верить, что уже разберутся с шагом в процессе. Я правильно понимаю, ASML получает излучение 13,5 нм для своей EUV-литографии из оловянной плазмы и эта технология уступает лазеру на свободных электронах?И чем оно им поможет, если у них "минимальный шаг 0,1 мкм"?
"Хочется верить", понятно:У них и нужного ЛСЭ ещё нет. Хочется верить, что уже разберутся с шагом в процессе.
а дальше один из двух вариантов
1) оптимистичный - сделан вывод, что выполнить поставленные цели в очерченных рамках не представляется возможным
2) реалистичный - сделан вывод, что надо еще чуть поднажать, еще немного денег, и все заработает, так что давайте 2ю фазу ОКР (тут могут даже бумажных нанометров убавить для заманухи)
3) пессимистичный - пункт 2, но давайте еще параллельно сразу завод (за офулиард) строить для производства чудо-гаджета, ведь уже правда вот-вот почти готово все!
"Уступает" в каком смысле? Если вы про абстрактную "разрешающую способность" как функцию от длины волны, то рентгеновские трубки, напомню, существуют уже больше ста лет.Я правильно понимаю, ASML получает излучение 13,5 нм для своей EUV-литографии из оловянной плазмы и эта технология уступает лазеру на свободных электронах?